如今常用的磁力研磨机抛光方法有以下几种:
1.1 机械抛光
机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到滑润面的抛光方法,一般运用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,格外零件如回转体表面,可运用转台等辅助工具,表面质量 恳求高的可选用超精研抛的方法.超精研抛是选用特制的磨具,在富含磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动.运用该技术可以抵达 Ra0.008 μ m 的表面粗拙度,是各种抛光方法中的.光学镜片模具常选用这种方法.
1.2 化学抛光
化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的有些较凹有些优先溶解,然后得到滑润面.这种方法的首要利益是不需凌乱设备,可以抛光外形凌乱的工件,可以一同抛光良多工件,效率高.化学抛光的是抛光液的制造.化学抛光得到的表面粗拙度一般为数 10 μ m .
1.3 电解抛光
电解抛光基本原理与化学抛光一样,即靠选择性的溶解材料表面细小凸出有些,使表面光滑.与化学抛光对比,可以阴反响的影响,作用较好.电化学抛光进程分为两步:
( 1 )微观整平 溶解商品向电解液中涣散,材料表面几许粗拙下降, Ra > 1 μ m .
( 2 )微光平坦 阳极化,表面光亮度前进, Ra < 1 μ m .
